平成１９年度研究会開催状況

第１７６回研究会

弘済会館　（平成１９年６月２９日（金））

　1.　EIPBN2007国際会議報告

兵庫県立大学　高度産業科学技術研究所　　松井　真二

　2.　アルミナノホールアレーの形成とナノインプリントへの応用

首都大学東京/KAST　　益田　秀樹

　3.　ＵＶナノインプリントリソグラフィの最近の進展

モレキュラー・インプリンツ・インク　　和田　英之

　4.　ナノインプリントプロセス装置の現状と課題（大面積化へのアプローチ）

東芝機械（株）　　後藤　博史

第１７７回研究会

東京大学先端科学技術研究センター　（平成１９年９月２１日（金））

　１．　多段多極子電子光学系シミュレーション

（株）荏原製作所　村上武司

　２．　電子ビーム描画シミュレーション技術(取消し)

大阪工業大学　小寺正敏　

　３．　マルチビームＭＬ２システム要素技術の開発

キヤノン（株）製品技術研究所　後藤　進　○奥貫昌彦

　４．　らせん状のイオン軌道を持つ飛行時間質量分析計の開発

日本電子（株）　佐藤貴弥、佐藤崇文、田村淳

　５．　最近の質量分析装置

大阪大学　石原盛男

第１７８回研究会

弘済会館　（平成１９年１１月１６日（金））

１．「イオン注入表層・表面改質の現状―SMMIBにおける最近の動向―」

埼玉工業大学　岡部芳雄

２．「物理蒸着法による高分子薄膜形成の現状と今後の展開」

東京農工大学　臼井博明

３．「プラズマイオン注入成膜法による高密着性DLCコーティングと工業応用」

兵庫県立大学　八束充保

栗田製作所　　西村芳美

４．「イオン注入応用技術によるナノ粒子構造作製とナノパターンニングへの展開」

物質・材料研究機構　岸本直樹，武田良彦，雨倉宏

筑波大学　Jin Pan，中村雅英

第１７９回研究会

弘済会館　（平成２０年１月２５日（金））

１．　「ＥＢ直接露光技術の開発動向」

　　　　　　　　　　　富士通（株）　　　　　　有本　宏

２．「マルチビーム方式に関する一考察」

　　　　　　　　　　(株)アドバンテスト　　　　　　安田　洋、山田　章夫

　　　　　　　　　　　　　　　　　

３．「低エネルギー電子ビーム描画に関する考察」

（株）東芝　　　　　　中辻　哲郎

　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　

４．　「電子ビーム描画シミュレーション技術」

大阪工業大学　　　　　　　　　　　小寺　正敏

５． 「高エミッタンス電子源用材料の課題」

　　　　　　室蘭工業大学　　　　　　　　　　　　　安達　洋

６． 「高感度且つ低ＬＥＲをもつ電子線レジストの開発」

　　　　　　兵庫県立大学　　　　　　　　　　　　渡邊　健夫

７． 「非接触原子間力顕微鏡による原子識別」

　　　　　　　大阪大学　　　西　竜治、李　仁淑、宮川　大輔、森田　清三

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