平成１５年度研究会開催状況

 

第１６０回研究会

弘済会館　（平成１５年６月２０日（金））

 

　1. EIPBN2003会議報

                       NEC基礎研究所　　落合　幸徳

 

　2. ナノ・インプリント技術

                       大阪府立大学　　平井　義彦

 

　3. 光インプリント技術

                       産業技術総合研究所　　廣島　洋

 

　4. ナノインプリント技術の光デバイスへの応用

                       NTT物性科学基礎研究　　横尾　篤

 

第１６１回研究会（第３回荷電粒子光学シンポジウム）

産総研・共用講堂　（平成１５年９月１８日（木））

 

　1. 親指サイズ電子顕微鏡の研究・開発

                       東大先端研　　三好　元介

 

　2. 静電バイポテンシャルレンズの薄肉近似

                       阪大名誉教授　　裏　克己

 

　3. 試料帯電を考慮した電子線散乱モンテカルロシミュレーション

                       日立ハイテクノロジーズ　　池上　明、小瀬　洋一

 

　4. Noise effect on the measurement of SEM resolution

                       日本電子　　松谷　幸、斉藤　昌樹

 

　5. SEM画像のランダムノイズを考慮した像分解能評価法

                       日立ハイテクノロジーズ　　石谷　亨、佐藤　貢

 

　6. LaB6カソード電子銃からのビーム入射時のSE信号のＳ／Ｎ比測定

                       荏原製作所　　中筋　護、加藤　隆男、吉川　省二、佐竹　徹、野路　伸治

 

　7. ６極子を用いたＴＥＭの球面収差補正

                       日本電子　　細川　史生、沢田　英敬

                       ＣＥＯＳ　　Max Haider

 

　8. 荷電粒子装置の光軸ずれ特性と高精度自動光軸補正

                       日立ハイテクノロジーズ　　揚村　寿英、高根　淳、佐藤　貢

 

　9. ＳＴＥＭシミュレータによる生体高分子観察の最適化研究

                       大阪大学　　鷹岡　昭夫

                       富士総合研究所　　小野　耕平、渋木　尚、赤荻　香緒里

 

　10. UHV-TEMを用いたAuナノ粒子の電子誘起蒸着

                       物質・材料研究機構　　田中　美代子、下条　雅幸、韓　明、三石　和貴、古屋　一夫

 

　11. 有機金属ガスを用いた電子線誘起蒸着法によるナノ構造作製

                       物質・材料研究機構　　下条　雅幸、三石　和貴、田中　美代子、韓　明、古屋　一夫

 

　12. 高性能集束イオンビーム装置の開発とその応用

                       セイコーインスツルメンツ    小川　貴志、長谷川　正夫、森田　成司、鈴木　秀和

                                                             完山　正林、大井　将道、高橋　春男、杉山　安彦

                                                             岩崎　浩二、八坂　行人

 

　13. 液体クラスターイオンビーム と固体表面との相互作用

                       京都大学　　高岡　義寛、野口　英剛

 

　14. 最近の質量分析装置‐マルチターン飛行時間型質量分析計を中心に

                       大阪大学　　石原　盛男

 

　15. 高精度磁界計算のための一般３次元境界磁荷法の開発

                       名城大学　　村田　英一、大江　俊美、下山　宏

 

　16. Multi Emitter評価装置の開発―LEEM, PEEM, FEEMによるMulti Emitterの動作状態のreal time 観察 ―

                       名城大学　　下山　宏、村田　英一、木村　友彦

                       日本電子　　最上　明矩、境　悠治、工藤　政都、嘉藤　誠

                       富士通研究所　　別井　圭一、井上　和則

 

　17. 小型電子線鏡筒Mini-EOCによる超低加速SEM観察

                       アプコ　　小粥　啓子、齊藤　秀一

 

　18. 電子銃と高圧電源

                       エー・アンド・デイ　　高口　岳、澤良木　宏、相原　龍三

 

　19. シリコンフィールドエミッタアレイのディスプレイへの応用

                       産総研　　金丸　正剛、長尾　昌善

 

　20. 数値シミュレーションによる電子源特性の評価方法について

                       島津製作所　　藤田　真

 

　21. ショットキー電子放出のエネルギー分布と有効質量近似モデル

                       日立製作所　　大嶋　卓、西山　英利

 

　22. 微小ホール開口を用いたパターン形状ビームの高解像検出

                       日立製作所　　太田　洋也、早田　康成、村井　二三夫

                       日立計測器サービス　　彼末　忠士

                       日立ハイテクノロジーズ　　斉藤　徳郎

 

　23. 写像光学系を用いたEB欠陥検査装置の開発

                       東芝セミコンダクター　　山崎　裕一郎

 

　24. 低速電子線近接投影リソグラフィ装置　LEEPL-3000について

                       リープル　　佐本　典彦、野末　寛、遠藤　章宏、樋口　朗、笠原　春生

 

　25. マルチコラムセルMCC　−Column-PoC(proof of concept) system 評価−

                       アドバンテスト    安田　洋、原口　岳士、坂崎　知博、佐藤　高雅

                                               中野　光浩、濱口　新一、木内　隆、矢原　秀文

 

　26. 電子線マスク描画装置EBM-4000の現状

                       ニューフレアテクノロジー　　室岡　賢一、服部　清司、飯塚　修

 

　27. 電子線投影露光装置の現状

                       ニコン　　沖野　輝昭

 

第１６２回研究会

弘済会館　（平成１５年１１月２１日（金））

 

　1. 走査型トンネル顕微鏡を用いた微細Siデバイス中の２次元キャリア分布評価

                       富士通研究所　　福留　秀幌

                       富士通　　有本　宏

 

　2. 集束イオンビーム加工法と電子線ホロフラフィーを用いた半導体内部電位分布の評価

                       名古屋大学　　佐々木　勝寛、坂　公恭

                       JFCC　　王　洲光、平山　司

                       アイテス　　加藤　直子

                       松下テクノリサーチ　　藪内　康文

 

　3. 高感度STEM-EDXによるMOSデバイス中ASエクステンションの解析

                       日立中央研究所　　常田　るり子、高口　雅成

 

　4. 不純物原子分布の原子分解能STM計測

                       産総研　　西澤　正泰、金山　敏彦

 

　5. MNE2003国際会議報告

                       NEC基礎研究所　　落合　幸徳

 

第１６３回研究会

京大・桂キャンパス　（平成１６年１月２３日（金））

 

　1. 材料研究のための陽電子分析装置

                       理化学研究所　　斉藤　文修、岩木　正哉

 

　2. 負イオン注入技術とその応用

                       京都大学　　石川　順三、辻　博司、後藤　康仁

 

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